4.表面张力：是影响光固化胶体性能的一个重要指标，活性稀释剂的表面张力的大小是影响与各种基材的相互作用的因素。如润湿性、粘附性、渗透性和流平性都受表面张力的影响，低表面张力的胶液可以在石材表面润湿及铺展，相反，则不能有效的润湿和铺展，就会像水珠落在石蜡表面上样，将形成独立的水珠而不会散开。虽然润湿性取决于保护胶的整体系的表面张力，即包括单体、低聚物、光引发剂、添加剂等有关，所以，在制作配方中加人流平剂作为添加剂，其目的是降低整个体系的表面张力。因为配方中活性稀释剂的用量较大些，而且各种单体表面张力相差又较大，所以，选择合适的表面张力的单体作为稀释剂也是一种调节体表张力的有效手段。 
　　5.毒性、刺激性及气味：一般来说，单体都具一定毒性，但因化学结构不同，其毒性、刺激性及气味也存在差异，原则上讲应优先考虑选用低毒性、低刺激性、无不良气味的单体作活性稀释剂。上述单体的三性是通过蒸气产生作用的，为此减小挥发性可降低其毒性、刺激性及气味性。例如乙氧基改性的TMP- TA后，即为TMP(E0)TA，引入乙氧基后挥发性能下降，而刺激性地随之减小。 
　　光引发剂：光引发剂是光固化体系的关键组分，因为它关系到防护胶体系配方在光辐照时，低聚物和稀释剂能否迅速由液态转变成固态—交联固化。目前紫外光(UV)固化技术，按光引发剂产生活性自由基的作用机理不同，主要可分为两大类型：裂鲜型光引发剂和夺氢型光引发剂。裂鲜型光引发剂中2—羟烷基苯酮总体具有很高的光引发活性，是应用开发最为成功的一类光引发剂。2—羟烷基苯酮结构最简单的是2—羟基-2-甲基-1-苯基丙酮—1(HUP]商品名叫作Darocurll73(Ciba公司)，是目前国内光固化行业应用最为广泛的光引发剂之一，另一个1—羟基—环已基苯酮  (HCPK)，商品名为gacurel84，是相当高的光引发活性，也同样是受国内行业广泛采用的引发剂之一。这两个光引发剂以卓越的光引发性能和优良的热稳定性及其综合平衡性能深受用户欢迎。作为夺氢型光引发剂，首先，成本低是被部分客户乐于接受的原因，可用于一些附加值低、品质要求不太高的配方之中。光引发剂在(UV)固化材料中是不可缺少的组成部分，一般使用光引剂都会产生过量，光照后剩余的引发剂会留在固化之中，在户外会分解生成自由基，由此会进一步引聚合交联，使涂层变黄又发脆，影响制品的物理机性能和使用寿命。因此，研究和开发新型的光引发成为人们一直关心的课题。近年，国内外又开发出乙酰磷氧型光引发剂，这类光引发剂有BASF公司清华紫光英力化工公司开发的TPO~1和汽巴精化BAPO型光引发剂，它们的紫外吸收峰比常规的上提到的光引发剂如BP、1173、184、651、907等偏长波，这类光引发剂不仅适用于有颜料的固化体系，还有分解速度快，产生白由基效率高，光照后光孔剂剩余量几乎为零等优点。
　　在实际应用中，除了上述组分以外，还往往需要加入各种助剂，其目的是为了达到使用时的要求。为了达到良好的流动平整性，需要加人流平剂，为了抑制体系中气泡，需要加入消泡剂等等。一般传统涂料中广泛使用的各种助剂，都可直接应用于(UV)固化体系中，但采用时应考虑到(UV)固化体系的特点，它是从液体到形成固化膜的时间很短(几秒)在这期间没有溶剂大量挥发，为此助剂选用应从这一特点出发，才能获得满意的效果。    
　　当前在90％以上辐射固化中都使用紫外光源，但很多(UV)固化从业人员主要精力还是集中在光引发剂、单体、低聚物及配方的研究上，往往忽略了紫外光源的作用和影响上，有关此项问题将另作探讨。